为便于供应商及时了解政府采购信息，根据《财政部关于开展政府采购意向公开工作的通知》（财库〔2020〕10号）等有关规定，现将大连理工大学2025年9月政府采购意向公开如下：
| 物理气相沉积工艺交互式系统 | |
| 项目所在采购意向： | 大连理工大学2025年9月政府采购意向 |
| 采购单位： | 大连理工大学 |
| 采购项目名称： | 物理气相沉积工艺交互式系统 |
| 预算金额： | 200.000000万元(人民币) |
| 采购品目： |
A02100699其他试验仪器及装置
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| 采购需求概况 ： |
物理气相沉积工艺交互式系统，包括磁控溅射原理机1台和磁控溅射工艺设备1台，以及正常使用所需外围条件。磁控溅射原理机应包括：晶圆传输腔、磁控溅射腔、软件控制系统、安全模块；磁控溅射腔配备真空仿真管道系统，射频电源及靶枪仿真模型；真空系统配备工业机械真空泵、皮拉尼真空规、电磁阀、放气阀；软件部分配备控制软件，可视化图形操作界面,能够模拟系统实时状态参数的显示；配有虚拟现实模块，包含自动和手动拆解功能，可还原设备外观和使用环境。磁控溅射工艺设备，主要参数应满足：溅射室极限真空度：≤6×10-5Pa，镀膜时工作真空度：0.3-10Pa；具有3套4英寸靶位，1套2英寸靶位，靶面距样品中心的距离100mm-140mm可调；可放置一个8英寸样品托，基片自转速度5-30转/分连续可调；加热系统温控范围为室温至800℃±1℃，连续可调；四路进气且气流量控制涵盖200SCCM，100SCCM，50SCCM挡位；基片可以加负偏压-200V；直流电源1KW的2套；射频电源1KW的2套；自动匹配器。提供运输、安装和售后服务。
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| 预计采购时间： | 2025-09 |
| 备注： |
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